苏大维格表示，公司激光直写光刻机具体应用包括柔性电子，MEMS 以及特定领域半导体比如半导体功率芯片等产品的研发与制造公司光刻设备整机除自用及向国内外高校及科研院所销售外，2021 年开始向企业拓展，并成功实现了对半导体领域企业的销售，在光刻机关键器件方面，公司向上海微电子提供了其半导体领域投影式光刻机用的定位光栅部件

资料显示，苏大维格主要从事微纳关键技术，高端智能制造设备和功能材料的创新应用，是首批认证的国家高新技术企业其光刻仪器事业部研制了多种用于 MEMS 芯片的光刻设备 MiScan200，微纳光学的 MicroLab和超表面，裸眼 3D 显示，光电子器件研究的纳米光刻设备 NanoCrystal

该报告进一步比较了各厂商的IMU制造技术水平，还比较了同一厂商选择并集成到SystemPlusConsulting样本中包含的智能手机中的不同技术。最后，报告对样本中最常见的型号进行了全面的技术和成本分析，包括MEMS，ASIC和封装。

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